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    1200立式气氛炉

    更新时间:2020-11-05

    浏览量:2665

    立式气氛炉用于高真空热处理可抽真空通惰性气体额定温度分别为1100℃、1400℃、1600℃、1700℃,使用不同的加热元件,型号齐全,安全可靠,同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造,适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理,是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备
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